Lampe für das Backen in kontrollierter Atmosphäre

Tue, 30 Jun 2026 05:07:26 +0800

Auf der Lithografiefläche wissen wir beide, dass die Trocknungsprozesse nicht nur thermischer Natur sind – sie haben auch einen Einfluss auf die Qualität der Wafer. Eine Abweichung von 2°C während des Weichtrocknungsprozesses zeigt sich sofort als Variationen im CDU-Wert. Ein Hotspot beim Harttrocknen hingegen führt zu erheblichen Qualitätsverlusten – diese werden direkt im Waferprofil sichtbar. Deshalb haben wir die Kontrollierte-Atmosphäre-Trocknungslampe entwickelt, um diese Unbeständigkeiten auszuschließen.

Was wirklich wichtig ist
Die Lampe verwendet kurzwelliges Infrarotlicht in einem Quarzkörper. Dadurch wird eine schnelle, oberflächenbasierte Erwärmung erreicht, ohne dass es zu Überhitzungen kommt. In der Trockenzonenbereich wird eine Homogenität auf dem Niveau von ±0,1°C gewährleistet. Zudem wird die Wiederholgenauigkeit pro Batch überwacht – nicht nur pro Durchlauf. Die Atmosphäre ist abgeschlossen und kontrolliert, sodass das Trocknungsprofil konstant bleibt – egal ob N₂, trockene Luft oder eine Sauerstoffreduzierte Mischung verwendet wird.

Fotoresist Weichbrennlampe

Fri, 26 Jun 2026 05:04:05 +0800

Im Bereich der Lithografie ist die sanfte Erwärmung des Werkstücks niemals einfach nur eine Art Aufwärmphase. Es handelt sich dabei um eine wichtige Grenzkondition, die dazu dient, das Profil des Fotoleitschichtmittels zu bestimmen, Lösungsmittel zu entfernen sowie die Kontrolle über die Dicke der Schichten während der weiteren Verarbeitung sicherzustellen. Wenn die Lampe an Leistung verliert, merkt man das schnell – es entstehen Unregelmäßigkeiten an den Rändern, und die Qualität der Wafer leidet bereits lange bevor die Messgeräte dies erkennen können. Wir haben unsere Lampe so konzipiert, dass diese Unregelmäßigkeiten vermieden werden.

Backen on Professional IR Heating Lamps

Lampe für das Backen in kontrollierter Atmosphäre

Fotoresist Weichbrennlampe