<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Emitter on Professional IR Heating Lamps</title>
		<link>http://ir-heat-lamp-pro.com/cs/tags/emitter/</link>
		<description>Recent content in Emitter on Professional IR Heating Lamps</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>cs</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 01 Jun 2026 02:30:16 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-lamp-pro.com/cs/tags/emitter/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Halogenový IR zářič pro sušení polovodičových plátků</title>
				<link>http://ir-heat-lamp-pro.com/cs/posts/halogen-ir-emitter-for-wafer-drying/</link>
				<pubDate>Mon, 01 Jun 2026 02:30:16 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-lamp-pro.com/cs/posts/halogen-ir-emitter-for-wafer-drying/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-lamp-pro.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Halogenový IR zářič pro sušení polovodičových plátků&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na lince 300 mm se cyklus odstředivého sušení zpomaluje a wafer je stále mokrý – voda zachycená ve strukturách, kapky vody na okrajích. Použití klasické horké plotny znamená riziko pomalého, nerovnoměrného náběhu, který zanechá kapky. Rychlý foukací vzduch zase přivádí částice. Tak či tak je další vrstva lithografie vzdálena od snížení výtěžnosti jen o jeden mikroznečišťující element.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sušení waferu není „příjemný doplněk“. Je to řízený krok odstranění vlhkosti s tepelným profilem, který musí být opakovatelný, čistý a zohledňovat náklady. V procesu fotorezistu zbytková vlhkost narušuje jak měkké, tak tvrdé vypalování a dochází k odchylkám v kontrole kritických rozměrů a profilu boční stěny. Zdroj tepla musí rychle dosáhnout teploty, udržovat rovnoměrnost napříč waferem a nezpůsobovat kontaminaci.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
