http://ir-heat-lamp-pro.com/cs/tags/cmp/ Recent content in CMP on Professional IR Heating Lamps Hugo cs Mon, 29 Jun 2026 07:06:43 +0800 http://ir-heat-lamp-pro.com/cs/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/ Mon, 29 Jun 2026 07:06:43 +0800 http://ir-heat-lamp-pro.com/cs/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/ <p><img src="http://ir-heat-lamp-pro.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png" alt="Odvodňovací ohřívač destiček po CMP"></p> <p>Při procesu oplachování po CMP zůstávají na povrchu čipu mikrokapénky, které se mohou stát zdrojem defektů, pokud dojde ke změnám v profilu sušení. I malá změna teploty může ovlivnit chování fotorezistu během dalšího procesu sušení. Přidáním částic během zahřívání se snižuje kvalita výstupního produktu. Je potřeba, aby teplota zůstala v určeném rozmezí a aby prostředí zů<a href="https://o-yate.com">stalo</a> čisté.</p> <p><strong>Co je důležité uvnitř systému</strong><br> Tento ohřívač jsme navrhli tak, aby splňoval nároky úzkého rozsahu teplot po CMP. Halogenové lampy poskytují rychlou a stabilní reakci, zatímco křemíkové okno izoluje komoru od těla lampy – díky tomu zůstává počet částic na nízké úrovni. Rozložení teploty po celém povrchu čipu je udržováno na úrovni ±0,1 °C, přičemž opakovatelnost mezi jednotlivými cykly je lepší než ±0,2 °C. Hodnoty teploty jsou řízeny s velkou přesností, takže kritické rozměry a <a href="https://o-yate.net">parametry</a> zůstávají stabilní. Systém je určen pro použití v čistých prostorách třídy 1–100. Každý materiál je vybrán tak, aby se minimalizovalo uvolňování plynů a ostatních částic. Výkon ohřívače je přizpůsoben konkrétní platformě a rozhraní umožňuje snadné začlenění do stávajících zařízení.</p>