Auf der Lithografieplattform darf man bei der Trocknung des Fotolacks auf keinen Fall Kompromisse eingehen. Eine Abweichung von 1°C während des Weich- oder Harttrocknungsprozesses kann dazu führen, dass die kritischen Abmessungen verändert werden und das Profil der Seitenwände beeinträchtigt wird. Wenn die Wafer thermische Ungleichmäßigkeiten aufweisen, hat das Konsequenzen: geringere Erträge, Änderungsarbeiten und letztendlich müssen ganze Chargen entsorgt werden. Wir haben unseren Heizer für Halbleiterlaserdioden so konzipiert, dass die Temperatur auf der Waferoberfläche innerhalb von ±0,1°C gehalten wird – das ist schließlich die Toleranzgrenze Ihres Prozesses.
Was wirklich wichtig ist
Wir verwenden NIR-Laserdioden mit geschlossenem Regelkreis. Dadurch wird die Wärme schnell und gezielt abgegeben, ohne dass es zu Überhitzungspunkten auf der Waferoberfläche kommt. Das Ergebnis ist eine Temperaturgleichmäßigkeit von ±0,1°C in der aktiven Trockenzone sowie eine Wiederholgenauigkeit von ±0,05°C von Charge zu Charge. Die Plattform ist für den Einsatz in Reinräumen der Klassen 1 bis 100 konzipiert. Die verwendeten Materialien und Oberflächenbeschichtungen sorgen dafür, dass während des Trocknungs- und Abkühlungsprozesses keine Partikel entstehen. Die Leistungsabgabe bleibt rund um die Uhr stabil – wir haben Geräte, die bereits über 5.000 Stunden lang ohne mehr als 5% Leistungsverlust arbeiten.
Warum das im Fotolackverarbeitungsprozess wichtig ist
Die Temperaturschärfe bestimmt, wie effektiv Lösungsmittel entfernt werden können sowie wie gut der Lack gegenüber Ätzung widerstandsfähig ist. Mit dem Laserdiodenheizer können Sie die thermischen Bedingungen bei jedem Trocknungsschritt genau kontrollieren. Dadurch werden Veränderungen der kritischen Abmessungen minimiert und die Rauheit der Kanten unter Kontrolle gehalten. Zudem können die Trocknungszyklen verkürzt werden, da die thermische Reaktion schnell erfolgt. Außerdem wird weniger Energie verbraucht, da die Leistungsabgabe präzise gesteuert wird. Zudem gibt es weniger Wartungsunterbrechungen. Der Heizer passt sich problemlos in bestehende Anlagen ein, sodass Sie Ihre Prozesse weiterhin effektiv steuern können.
Was Sie planen müssen
Bei der Installation muss der optische Weg richtig ausgerichtet werden, außerdem muss sichergestellt werden, dass die Belüftung und Kühlung funktionieren. Der Heizer funktioniert am besten, wenn die Bedingungen auf der Rückseite des Substrats konstant sind – Schichten, Rückstände oder Verformungen können die Wärmeübertragung beeinträchtigen. Planen Sie daher einen kurzen Testlauf, um die Temperaturprofile für Ihren jeweiligen Waferstapel zu ermitteln und den Regelkreis entsprechend anzupassen.